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Cámara de Pruebas a Alta Temperatura, Sin Oxidación

Cámara de Pruebas a Alta Temperatura, Sin Oxidación
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La cámara de alta temperatura sin oxidación evita que los productos se oxiden cuando se aplique altas temperaturas. Es adecuada para aplicaciones en diversas industrias, como la de semiconductores, cristales líquidos, electrónica y aparatos de precisión.

Normas de referencia
  • Pruebas Ambientales para Productos Eléctricos y Electrónicos GB/T2423.2-2008 - Parte 2: Prueba B: Método de Prueba de Alta Temperatura
  • Método de Prueba Ambiental para Laboratorios de Equipos Militares GJB150.3A-2009 - Parte 3: Prueba de Alta Temperatura
  • IEC68-2-2 Prueba B: Calor seco

Características
  • Termostato desarrollado por nosotros de forma independiente.
  • Utiliza el método de control PID adaptativo difuso para ahorrar energía.
  • Amplio rango de control de la temperatura.
  • Pequeñas fluctuaciones y desviaciones de temperatura.
  • Ajuste manual del caudal de nitrógeno y visualización de la escala del caudalímetro de flotador.
  • Cuando la temperatura es estable (tras el contenido de oxígeno), la válvula solenoide controla el caudal de nitrógeno para reducirlo.
Funciones opcional
  • Ajuste automático del caudal de gases inertes mediante software de caudalímetro electrónico
  • Analizador en línea de la concentración de oxígeno
Especificaciones
Modelo SNO-216 ESNO-216 SNO-512 SNO-512 SNO-1000 ESNO-1000
Volumen efectivo (L) 216 512 1000
Rango de temperatura (℃) Min. RT+30
Máx. 250 350 250 350 250 350 250 350 250 350 250 350
Uniformidad de temp. (℃) ≤1.0
Fluctuación de temp. (℃) ≤ ±0.5
Desviación de temp. (℃) ±1.0
Velocidad de enfriamiento (℃/min) Serie 250℃, sin carga, de +225 ℃ a +60 ℃, ≤100min
Serie 350℃, sin carga, de +350 ℃ a +60 ℃, ≤180min
Velocidad de calentamiento (℃/min) Sin carga, de RT+15 ℃ a +200 ℃, ≤60min
Concentración residual de oxígeno en la cámara 20 ppm mínimo (dependiendo de la pureza del gas inerte utilizado)
Consumo de gas inerte de alta pureza (N2) cuando la concentración de oxígeno residual en la cámara es ≤100ppm ≤60L/min (hasta ≤40min) ≤120L/min (hasta ≤40min) ≤240L/min (hasta ≤40min)
≤14L/min (manteniendo la concentración) ≤28L/min (manteniendo la concentración) ≤56L/min (manteniendo la concentración)
Consumo de gas inerte de gran pureza (N2) cuando la concentración de oxígeno residual en la cámara es ≤50ppm ≤60L/min (hasta ≤60min) ≤120L/min (hasta ≤60min) ≤240L/min (hasta ≤60min)
≤20L/min (manteniendo la concentración) ≤40L/min (manteniendo la concentración) ≤80L/min (manteniendo la concentración)
Dimensiones internas (mm) an. 600 800 1000
al. 600 800 1000
pr. 600 800 1000
Dimensiones externas (mm) AN. 860 960 1100 1200 1060 1160 1300 1400 1260 1360 1500 1600
AL. 1430 1330 1510 1610 1530 1630 1710 1810 1730 1830 1910 2010
PR. 1500 1400 1600 1700 1600 1700 1800 1900 1800 1900 2000 2100
Potencia máx. (no la suma de toda la potencia) (KW) 4.5 6.0 4.5 6.0 7.5 9.0 7.5 9.0 11.0 13.0 11.0 13.0
Conmutador de fugas 4P (A) 16 16 16 16 16 20 16 20 25 25 25 25
Nivel de ruído (dB) Menos de 65 dB (medidos a 500 mm de la pantalla de visualización)
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>Simplewell Technology Co., Ltd. es una productora de diversos tipos de equipos y dispositivos de pruebas con más de 20 años de experiencia, situada en la ciudad industrial de Dongguan.

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